【特長】
●膜厚計L-500用新開発プローブ
●渦電流式プローブ(非磁性金属素地用)
●アプリケーションメモリを50本まで保存
●L字型
【仕様】
●測定方式:渦電流式
●測定対象:非磁性金属上の絶縁被膜
●測定範囲:0 ~ 1200μmまたは47.0mils
●測定精度:50μm未満±1.0μm/50μm以上±2%
●対応器種:膜厚計 L-500
【特長】
●膜厚計L-500用新開発プローブ
●渦電流式プローブ(非磁性金属素地用)
●アプリケーションメモリを50本まで保存
●L字型
【仕様】
●測定方式:渦電流式
●測定対象:非磁性金属上の絶縁被膜
●測定範囲:0 ~ 1200μmまたは47.0mils
●測定精度:50μm未満±1.0μm/50μm以上±2%
●対応器種:膜厚計 L-500
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